技术编号:32744755
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于涂层沉积的掩模和气压控制系统.相关申请的交叉参考.本申请要求年月日提交的美国临时专利申请第/,号的权益,所述美国临时专利申请通过引用并入本文中。技术领域.本发明涉及用于涂层沉积装置的掩模和气压控制系统。背景技术.涂层沉积系统已用于将涂层施加到各种衬底上。所述系统包含液滴生成装置,其包含质量谐振器、压电元件、波集中器和流体喷射器。在此类系统中,需要获得良好的边缘锐度。发明内容.本发明提供一种用于在沉积到衬底上期间控制液体涂层液滴的方法。所述方法包括将流动路...
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