技术编号:3274714
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及集成电路制造领域,尤其涉及一种气体小环境装置以及化学机械研磨机台。背景技术在超大规模集成电路(ULSI)制造工艺中,随着电路尺寸的不断缩小,开始在垂直方向上进行拓展。对于小图形,其分辨率受晶片表面的条件影响很大,随着特征图形尺寸减小到亚微米级,芯片制造工艺对低缺陷密度的要求越来越迫切。在众多的缺陷中,电化学腐蚀是常见的金属腐蚀缺陷,其是指金属表面与环境组分发生电化学作用而产生的破坏。数据显示电化学腐蚀产生的缺陷常常发生在CMP (Chemic...
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