技术编号：3276322
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置[0001]本实用新型涉及材料的干法表面处理技术，更具体地说，涉及一种集紫外光化学与化学气相表面清洗与改性的真空设备。背景技术[0002]紫外光化学表面处理技术能够有效清除大多数金属、半导体和绝缘材料的有机污染物，并实现金属、半导体和碳族元素等材料的改性，在材料生长、表面改性和器件制备等基础科研和产业应用领域发挥着重要的作用。这项技术起源于二十世纪七十年代，它最初为紫外光照射空气或氧气，并逐步发展为真空紫外...
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