技术编号:3277179
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种真空阴极电弧蒸发源的气动式引弧装置。背景技术真空阴极电弧沉积是当前离子镀工模具用和装饰用硬质保护薄膜的主流技术之一。具体的镀膜过程如下真空阴极电弧蒸发源安装在真空镀膜室侧壁上,蒸发源前端穿入真空镀室内,其上的镀料--靶块面朝着真空镀室内的待镀工件,由弓I弧装置在靶块表面弓I燃成簇的真空电弧微弧斑,弧斑区的高温和场致效应作用让靶材蒸发生成金属蒸气,并电离成等离子体向空间发射,在工件表面沉积成薄膜。引弧装置是阴极电弧蒸发源不可或缺的组成部分。...
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