一种低温制备六方相ZnS薄膜的工艺方法技术资料下载

技术编号:3279538

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本发明涉及,属于光电材料。技术背景ZnS是一种性能优越的I1-VI的直接带隙发光材料,有立方、六方两种晶相,其禁带宽度分别为3. 72 eV (立方相结构)和3. 77 eV (六方相结构),由于能带特性,ZnS薄膜在平板显示,薄膜电光器件,红外线窗口,光电探测器,传感器,激光器等方面有着非常广泛的应用。而ZnS薄膜的晶相结构对于上述器件的物理性能起着至关重要的作用。例如相对于立方相,六方相的ZnS薄膜更适合替代CdS薄膜作为CdTe薄膜太阳电池的缓冲层或...
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