技术编号:3281042
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体设备,特别是一种CVD设备中的托盘及包含该托盘的反应腔。背景技术目前,现有的CVD的反应腔室中设置有托盘,该托盘可以放置多个基板,从而实现大批量的生产。一种简单的设计是直接在托盘上形成圆形的凹槽,使得基板放置于其中。然而,这种设计并不能够很好的进行气相沉积工艺,例如产生气相损耗及影响沉积的均匀性等。基于上述情况,申请号为200880017035.9的中国公开专利提出了一种装置。在托盘上设置多个岛状结构,利用岛状结构来固定和定位基板,例如是由...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。