技术编号：3281044
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜领域，具体涉及一种用于蒸镀防污膜的蒸镀材料的吸附载体。背景技术真空镀膜法是一类重要的制膜方法，它在微电子、电子材料与元器件等电子工业，钟表工业，照相机等光学工业，窗玻璃等建筑工业中已经成为一项不可缺少的重要技术。此夕卜，在以电子信息产业为代表的高新技术中，真空镀膜技术也起着举足轻重的作用。真空镀膜法中，具有代表性的有真空蒸镀法、离子镀法、溅射镀膜法和化学气相沉积(chemicalvapor deposition,CVD)法等。其中真空蒸镀...
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