技术编号:3282772
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种刻蚀烘烤设备升降装置,更具体地说,涉及一种使用在氯气或氯化物刻蚀烘烤设备中的升降装置。背景技术金属有机化学气相沉积设备(简称M0CVD)以热分解反应方式在衬底上进行化学沉积反应,生长各种II1-V族、I1-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。石墨盘作为衬底的承载平台,在该反应过程中会有多余的化学反应残留物沉积在石墨盘表面上。如果不对这些残留物进行清除的话,会在新的一炉外延片生长过程中影响对应的温度控制和表面颗粒,并最终影...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。