技术编号:3282844
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及离子束材料表面改性,特别涉及一种新型离子束复合处理系统。背景技术常用的表面改性技术包括离子注入技术和磁控溅射技术。离子注入技术虽然能够获得较好的注入效果,但是注入层很薄,为了克服改性薄层的缺点,也侧重于提高注入能量,常规的I2和PI3注入法能量最多为IOOkev以上,由于注入层薄,设备十分昂贵,X射线防护复杂,所以离子注入法的使用受到限制。磁控溅射技术可以制备具有各种性能的薄膜,如各种硬质膜、超硬膜,以及具有各种光学特性的薄膜。但磁控溅射技术...
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