技术编号:32838094
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型属于工装夹具技术领域,具体涉及一种团簇离子束沉积基片架。背景技术.团簇离子束技术广泛用于工件表面的掺杂、蚀刻、清洁、平滑以及薄膜沉积。团簇离子源通过电子轰击而离子化所产生的气体团簇是包括数个到数千个或更多的分子的聚集体,这些气体团簇的尺寸较大,通常为中性或者携带少量电荷,因此仅作用于极浅的表面区域,而不会产生较深的次表面损伤。.如中国专利公开的公开号为cnu的一种团簇离子束沉积基片架,其涉及夹具技术领域。其通过每个支杆的中段均设有第一长槽孔,相交的两个支杆通过...
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