技术编号：3284390
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及稀土族过渡金属合金溅射用靶的组织、构成及制造方法。制造稀土族过渡金属系光磁记录膜的溅射用靶，原来有铸造法、烧结法、半熔融法等方法。这里所说的铸造法是将浇注而成的铸锭原样，采用外径加工制成靶;所谓烧结法是将一次浇注而成的铸锭进行粉碎，经烧结制成靶形状。另外，所谓半熔融法则如特开昭61-95788号、特开昭61-99640号专利所述。然而，上述的烧结法，因本质上含有较多的氧(极限量为2000PPm)，所以对易被氧化的稀土族过渡金属系是不适宜的。另一方...
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