技术编号:3284665
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。具备腔室,搬入有基板固定器,基板固定器具有搭载面,该搭载面搭载着基板;阴极电极,以与搭载面相对向的方式而配置,上述搭载面于腔室内、在上下方向延伸地配置;气体供给装置,将工艺气体导入至腔室内的基板固定器与阴极电极之间;以及交流电源,将交流电力供给至基板固定器与阴极电极之间,使工艺气体于基板固定器与阴极电极之间达到等离子体状态,将以工艺气体中所含的原料作为主成分的薄膜形成于基板上。专利说明等离子体成膜装置[0001]本发明是有关于一种等离子体(plasma)成...
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