技术编号：3286408
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种，本发明吸气剂由吸气层和保护层组成，吸气层的主要成分为Zr、Co以及稀土元素La、Ce、Pr、Nd中的一种或几种，保护层的主要成分为Ni。本发明使用脉冲激光沉积镀膜方法制备，在绒面单晶硅上沉积含有保护层和吸气层的双层结构薄膜吸气剂。绒面衬底能增大吸气薄膜有效面积，从而提高吸气速率和吸气量。吸气层表面镀有Ni保护层，Ni对氢具有解离功能，能够提高氢的吸附量，并且保护层能够阻碍氧的吸附，降低激活温度。本发明可在180~350℃烘烤的过程中实现激活...
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