技术编号:3286628
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了,包括如下步骤(1)将衬底放置于原子层沉积设备反应腔中;(2)向原子层沉积设备反应腔中通入含锌前驱体源,含锌前驱体源中的锌原子吸附于衬底表面;(3)向原子层沉积设备反应腔中通入含氮前驱体源,然后通过等离子体将含氮前驱体源电离,或将经过等离子体电离的含氮前驱体源通入原子层沉积设备反应腔中,电离后含氮前驱体源中的氮原子部分沉积,与衬底表面的锌原子形成氮锌共价键;(4)重复所述步骤(2)和步骤(3)即可逐层生长氮化锌薄膜。本发明通过等离子体将氮源引入...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。