技术编号：3287412
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。描述了具有其上包括离散突起的均质主体的抛光垫。在一示例中，一种用于抛光衬底的抛光垫包括具有抛光面和背面的均质主体。均质主体由具有第一硬度的材料组成。在均质主体的抛光面设置有多个离散突起且所述离散突起与该抛光面共价结合。多个离散突起由具有与第一硬度不同的第二硬度的材料组成。还描述了制作具有其上包括离散突起的均质主体的抛光垫的方法。专利说明具有其上包括离散突起的均质主体的抛光垫[0001]本发明的实施例属于化学机械抛光(CMP)、特别是具有其上包括离散突起的均...
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