技术编号：3287700
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的目的在于提供一种抛光垫，其能够防止浆料泄漏，并且具有优异的光学检测精度。其特征在于，依次层叠有抛光区、缓冲层、以及支撑膜，在贯通抛光区以及缓冲层的开口部内且在支撑膜上设置有透光区，所述透光区在抛光平台侧的表面具有周围部和凹陷部，在所述周围部层叠有支撑膜，在所述凹陷部处并未层叠支撑膜而是形成开口。专利说明抛光垫[0001]本发明涉及在通过化学机械抛光(CMP)使半导体晶片等被抛光体表面的凹凸平坦化时使用的抛光垫，具体涉及具有用于通过光学手段来检测抛光...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。