技术编号:3287971
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种溅射用钛靶,其为高纯度钛靶,其特征在于,含有0.5~5质量ppm的S作为添加成分,除了添加成分和气体成分以外,靶的纯度为99.995质量%以上。本发明的课题在于提供一种即使在高功率溅射(高速溅射)时也不会产生龟裂或破裂、能够使溅射特性稳定的高品质的溅射用钛靶。专利说明溅射用钛靶[0001]本发明涉及即使在高功率溅射(高速溅射)时也不会产生龟裂或破裂、能够使溅射特性稳定的高品质的溅射用钛靶。[0002]另外,关于本说明书中记载的杂质浓度,全部用质量分数(...
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