技术编号：3288106
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于在塑料基底(20)的表面(21)上制造减反射层的设备(1)。设备包括第一溅射装置(3)，用于将基底层(22)施加至塑料基底(20)的表面(21)；等离子体源(4)，用于对涂布的基底表面(21)进行等离子体蚀刻；以及第二溅射装置(5)，用于将保护层(24)施加至基底表面(21)。这些加工装置(3,4,5)在真空室(2)中结合配置，真空室(2)具有用于处理气体的入口(8)。为了在真空室(2)的内部在加工装置(3,4,5)之间移动基底(20)，设置...
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