技术编号:3289020
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于薄膜制备领域,更确切地说涉及高温下在衬底上进行沉积或喷镀等方法进行薄膜制备的领域以及类似装置。本发明的内容是提供一种解决高温下衬底原子流失影响平整度的设计方案;本发明利用加热装置(1)来加热衬底(2)至薄膜(3)生长所需的温度,在薄膜生长的过程中利用热反射装置B来反射衬底表面蒸发的材料(4)、(5),实时补偿其衬底表面材料的流失;从而有效避免衬底在高温下的蒸发造成的成膜形貌缺陷,可以生长出平整的、高质量的薄膜材料。专利说明一种解决高温下衬底原子蒸...
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