技术编号:3289107
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种样品支持器,可改善在利用等离子化学气相沉积法的成膜处理步骤中,形成在基板上的薄膜的膜厚分布。本发明的样品支持器被储存在等离子处理装置中,且样品支持器被安装在与呈梳齿状配置的电极对向的位置;且样品支持器具有搭载面,该搭载面沿着定义搭载处理对象的基板的搭载区域的垂直方向延伸,且搭载面的外缘的角部被进行C修角或R修角。专利说明样品支持器[0001]本发明涉及一种样品支持器(sample holder),搭载处理对象的基板且储存在等离子处理装置中...
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