技术编号:3290165
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种薄膜沉积设备及利用薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。薄膜沉积设备包括等离子体产生单元、溅射单元和包含反应空间的处理室。等离子体产生单元在反应空间中产生等离子体。溅射单元独立于等离子体产生单元进行驱动,以在反应空间中形成电场并利用等离子体对靶材执行溅射工艺。专利说明[0001]本申请要求于2012年8月6日提交的第10-2012-0085848号韩国专利申请的优先权,该申请的内容通过引用包含于此。[0002]本公开涉及一种薄膜沉积设备和一种利用其沉...
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