技术编号:3293905
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。公开。一种用于通过使用关于基板的掩膜执行沉积过程的沉积装置包括室;在所述室中的支撑单元,所述支撑单元包括第一孔并且被配置为支撑所述基板;供应单元,被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料;和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元,所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜,并且将所述掩膜关于所述基板对齐。专利说明[0001]相关申请的交叉引用[0002]本申请要求于2012年12月12日递交到韩国知识产权局的韩国专利申请N0.10-2012-0144673的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。