技术编号:3294475
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种传送带,用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾,其中在所述传送带的承载构件上设有网格,所述网格贯穿所述承载构件的承载面和与其相对的另一面,在所述传送带的下方设有粉尘收装置,所述传送带的网格能够允许散落于所述传送带上的金刚砂通过进入所述粉尘收集装置。本发明通过采用网状传送带运送硅片及在传送带的下方配置粉尘收集装置,可以随时对散落于传送带上硅片四周的金刚砂进行收集,再利用。专利说明一种传送带[0001]本发明涉及IC级硅单晶抛光...
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