技术编号:3294667
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。公开了一种薄膜沉积源、一种沉积装置和一种使用该沉积装置的沉积方法。所述沉积装置包括沉积源,该沉积源包括将沉积物质喷射在基板的表面上并被布置为沿第一方向的多个喷嘴;和至少一个快门,该至少一个快门通过打开或遮蔽所述沉积物质的喷射通道的至少一部分来控制所述沉积物质的喷射区域。专利说明[0001]相关申请的交叉引用[0002]本申请要求于2012年12月3日在韩国知识产权局递交的第10-2012-0139082号韩国专利申请的优先权,其公开内容通过引用全部合并于此...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。