技术编号：3298556
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了，其特征在于，包括以下步骤在玻璃基板上进行光学真空镀膜，依次镀上含铬膜层和氧化钛膜层；其中，镀含铬膜层时，铬的蒸发速率为0.2-0.5埃/秒，并通入氧气作为反应气体，氧气的通入流量为10-15sccm，含铬膜层的厚度为12-15nm。与现有技术相比，本发明采用光学真空镀膜技术能够在玻璃基板上形成铬与氧化铬混合的含铬膜层，在采用本发明的蒸发速率、通氧量、和厚度情况下，该含铬膜层在覆盖氧化钛层后具有优良的金属质感，但膜层既不连续导电，也几乎对位于基...
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