技术编号：3303400
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型提供了一种双腔室真空制膜设备，它包括送料腔室、活动密封机构、工艺腔室、送料装置，其中送料腔室上设置进出料口，送料腔室与工艺腔室连接，送料腔室与工艺腔室之间设置活动密封机构，送料装置位于送料腔室和工艺腔室内，送料腔室及工艺腔室上均设置真空机构；其优点在于本实用新型所述双腔室真空制膜设备可以避免产品进出料发生交叉污染、可提高产品质量、减少对大气污染及操作人员健康危害的双腔室真空制膜设备。专利说明双腔室真空制膜设备[0001]本实用新型涉及半导体、碳纳...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。