技术编号:3303749
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型公开了一种蒸发源装置和真空蒸镀设备,该蒸发源装置包括蒸发腔室和对蒸发材料进行加热并将加热后的蒸发材料传输至所述蒸发腔室内的进料腔室,所述蒸发腔室与所述进料腔室连接,在进行蒸镀过程中,可根据蒸发腔室内的蒸发材料的余量和蒸发速率,通过进料腔室对蒸发腔室进行加料,在加料过程中无须进行开腔处理,使得真空蒸镀设备能够连续地、长时间地进行蒸镀,提高了真空蒸镀设备的生产效率。专利说明蒸发源装置和真空蒸镀设备 [0001]本实用新型涉及薄膜形成,特别涉及蒸...
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