技术编号:3304114
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型提供一种薄膜形成装置,减少因蒸发物质从收纳于真空容器的基板保持部件和真空容器内壁之间的间隙迂回进入而引起的真空容器内的污染和异物混入。薄膜形成装置(1)具备真空容器(2);基板保持部件(10),其收纳于真空容器内,用于保持基板(K);和蒸镀源(3),其配置于基板保持部件(10)的下方位置。在基板保持部件(10)的外周下端部和真空容器内壁之间的间隙设置有防附着遮护部(20)。防附着遮护部(20)由配置于基板保持部件(10)的外周下端部的第1防附着遮...
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