技术编号:3305030
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型公开了一种薄膜生产设备,包括有反应室,其特征在于在所述的反应室下方设有气体入口,在所述反应室内与所述气体入口对应的位置上设有阴极,在所述的阴极上设有多个透气孔,在所述阴极上方设有水冷阳极,基片设置在水冷阳极上,所述的水冷阳极与阴极通过导线相连接。本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种结构简单,制作方便,生产成本低,用于薄膜生产设备。专利说明一种薄膜生产设备[0001]本实用新型涉及一种薄膜生产设备。背景技术[0002]金刚石薄膜...
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