技术编号:3308023
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种利用AlOx层(12),特别是Al2O3层涂覆基板(10)的方法,包括以下方法步骤(a)提供具有反应室(22)和至少一个RF电感(24)的电感耦合等离子体源(ICP源)(20),(b)将铝化合物,优选为三甲基铝(TMA)引入ICP源,(c)将作为反应气体的氧和/或氧化合物引入ICP源,并且将能量与ICP源电感耦合以形成等离子体(30),以及(d)在基板上沉积AlOx层。本发明还涉及一种用于在基板上沉积薄层,特别是用于实施上述方法的涂覆部件。涂...
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