技术编号：3308977
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，提供了与基底折射率相匹配的减反射膜材料。所述的膜层折射率的调节主要通过对的不同微结构的溶胶或者不同材料的溶胶进行复合的方式来获得。所述的溶胶选自氧化钛、氧化铪、氧化锆、氧化铝、氧化硅等溶胶中的一种或者两种的复合。该方法具备能在大面积、非规则形状基片上镀膜，易于规模化生产，成本低廉等优势。专利说明[0001]本发明属于化学法制备光学薄膜及技术应用领域，具体涉及一种针对不同基底的减反射膜的制备方法。背景技术[0002]光从一种介质入射到另一种介质时...
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