技术编号：3309971
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供，该低辐射玻璃包括玻璃基片和功能膜层，所述功能膜层包括SiC膜层。SiC膜层能满足常规介质层材料的性能的同时而且能大幅度提高溅射速率。通过实验发现SiC膜层的溅射速率是3.23nm?m/min/Kw/m，而且碳化硅靶材溅射使用纯氩气溅射，相比硅铝靶的氩氮反应溅射成膜均匀更易控制，更为稳定。专利说明[0001]本发明属于镀膜玻璃，尤其涉及。背景技术[0002]近年来，在大面积镀膜领域，SiNx介质层膜的应用越来越广泛。SiNx具有较好的抗腐蚀、抗机...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。