技术编号:3310123
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。提供一种蚀刻方法,所述方法使用蚀刻剂对同时存在有金属氧化物层和铜层的被处理物进行处理,由此选择性地对所述铜层进行蚀刻,所述金属氧化物层是包含选自Zn、Sn、Al、In以及Ga中的1种以上金属的氧化物,所述蚀刻剂的特征在于所述蚀刻剂包括以铜离子计为0.1~3.0重量%的铜(II)离子源;0.1~30.0重量%的碳数为6以下的有机酸;以及含有0.1~30.0重量%的含氮化合物的水溶液,所述含氮化合物为选自由环内具有2个以上氮原子的杂环化合物以及碳数为8以下的含...
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