技术编号:3312565
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种成膜装置,其能够实现在成膜对象物的成膜面内的膜质分布的均匀化。本发明的成膜装置,在真空腔室(10)内通过等离子束(P)对成膜材料(Ma)进行加热而使其蒸发,并且使成膜材料的蒸发粒子(Mb)附着于成膜对象物(11)上,其构成为具备以下等离子源(7),在真空腔室(10)内生成等离子束;作为主阳极的主炉缸(17),被填充成为蒸发源的成膜材料,并且向成膜材料导入等离子束或者被导入等离子束;作为辅助阳极的环炉缸(6),配置于主炉缸的周围,并且引导等离子...
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