技术编号:3314453
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。柔软且可修整的化学机械抛光垫层叠体。本发明提供了一种化学机械抛光垫层叠体,其包括抛光层、刚性层、将所述抛光层与刚性层粘结的热熔粘合剂,其中所述抛光层包含以下组分的反应产物,所述组分包括多官能异氰酸酯和固化剂包装,所述固化剂包装包含胺引发的多元醇固化剂和高分子量多元醇固化剂,其中,所述抛光层的密度大于0.6克/厘米3,肖氏D硬度为5-40,断裂伸长率为100-450%,切割速率为25-150微米/小时;以及其中所述抛光层具有适合用来对基材进行抛光的抛光表面。...
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