拼接式旋转靶及其形成方法技术资料下载

技术编号:3314987

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本公开提供一种。所述拼接式旋转靶包括内管和与其同轴心的靶材坯料以及设置在所述内管与所述靶材坯料之间的接合层,其特征在于,所述靶材坯料由至少两个靶材坯料段构成,且所述两个靶材坯料段之间的接缝处存在拼接面。通过改变拼接部位的形状,将拼缝在时间上累积的影响分散到更大的面积区域,减小了拼接处的膜质差异,从而减小了器件不良发生的可能性,提高了产品合格率。专利说明[0001]本公开涉及一种镀膜技术,尤其涉及一种。背景技术[0002]磁控溅射(Sputter)是一种优良...
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