技术编号:3316160
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种用于密封化学沉积装置中的处理区的系统,所述系统包括化学隔离腔室,所述化学隔离腔室具有在所述化学隔离腔室内形成的沉积腔室;具有面板的喷头模块,所述喷头模块包括多个将反应器化学物质输送到用于对半导体衬底进行处理的空腔中的入口以及将反应器化学物质和惰性气体从所述空腔中去除的排出口,以及被配置成输送惰性气体的外部充气室;基座模块,所述基座模块被配置成支撑衬底并且垂直移动以封闭所述空腔而在所述基座模块与围绕所述面板的外部部分的台阶之间存在狭窄间隙;以...
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