技术编号:3316530
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种化学气相沉积设备及沉积方法。化学气相沉积设备包括反应腔室,反应腔室的底部设置有用于承载反应基板的基座,基座的四周还设置有活动挡板,当活动挡板移动到反应基板部分区域的上方时,遮挡部分区域,使得反应基板上未被遮挡的区域能够单独成膜。利用上述化学气相沉积设备能够对一个反应基板进行多次分区成膜。每次成膜操作时可以选择反应基板上一个分区为指定区域,然后将活动挡板移动到反应基板上方,对反应基板上除指定区域以外的区域进行遮挡,接着输入成膜所需的反应气体,使...
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