技术编号:3316534
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种能够轻易地调节磁场分布的磁场生成设备和使用所述磁场生成设备的溅射设备,所述磁场生成设备包括两个以上主磁极部,其用于生成主磁场;一个以上副磁极部,其包括通过分割得到的多个第一分割磁体,并且生成用于对生成的主磁场进行调节的副磁场;以及轭部,其包括对应于所述一个以上副磁极部而与所述多个第一分割磁体相对的一个以上第一轭。专利说明磁场生成设备和溅射设备 [0001] 本发明涉及一种磁场生成设备和一种使用所述磁场生成设备的溅射设备。 背景技术 ...
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