技术编号:3316765
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。提供了一种。该薄膜沉积装置包括掩模,与基底的第一表面接触;磁板,在基底的第二表面上方,并且被构造成将掩模拉向基底的第一表面,基底的第二表面是与第一表面相反的表面;绝缘构件,在基底的第二表面与磁板之间。专利说明[0001] 本申请要求于2013年8月22日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0099921号 韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。 [0002] 本发明的一个或更多个实施例涉及一种通过产生沉积源的蒸...
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