技术编号：3317271
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种用于磁控溅射镀膜机内镀制“雕塑”薄膜的磁控溅射倾斜沉积镀膜装置，包括安装架、刻度盘和基片安装夹具，还有步进电机、步进电机驱动器、计算机。该安装架安装在磁控溅射镀膜机的基底装置上；该刻度盘和基片安装夹具共同安装在安装架上；基片的倾斜角度通过基片安装夹具上的螺钉和刻度盘上的细分刻度进行精确控制，自由控制基片的倾斜角度；该步进电机通过旋转夹具控制基片的公转；该步进电机驱动器通过电脑和步进电机相连，通过计算机的已有程序来控制公转的频率。本发明主动引入基片的倾斜...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。