技术编号:3320223
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种,该基板处理装置通过执行多次将在容器内相互发生反应的至少两种反应气体依次供给到基板的表面的供给循环,从而在所述基板上形成含有反应产物的膜。该基板处理装置包括旋转台,其设于所述容器内,并形成有用于在表面载置所述基板的凹部和与所述凹部连通的通孔;升降机构,其具有在对载置于所述凹部的所述基板进行移载时使用的升降销;以及控制部,其用于控制所述升降机构的动作。所述控制部控制所述升降机构,以使得在所述升降销经由所述通孔抵接于所述基板的状态下,一边使所述升...
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