技术编号:3326391
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种连续式真空离子镀膜机,具有箱式真空镀膜室,箱式真空镀膜室内的左、右两侧分别设有基膜放卷机构和基膜收卷纠偏机构,箱式真空镀膜室内由左至右间隔设有多排平面磁控溅射靶,其中左、右两排为单面溅射平面磁控溅射靶、左右两排之间的为双面溅射平面磁控溅射靶,相邻排平面磁控溅射靶之间形成有镀膜通道,所述多排平面磁控溅射靶的前、后两侧分别设有水冷托板,水冷托板的外侧设有传动辊,传动辊位于相邻两排平面磁控溅射靶之间的位置;所述基膜放卷机构装设的基膜绕经传动辊后从...
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