技术编号:3326980
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及原子层薄膜沉积,公开了一种原子层薄膜沉积进气装置。该原子层薄膜沉积进气装置包括接头、接管和第一导流管;所述接管分别与所述第一接头和所述第一导流管连通,所述第一导流管两端分别安装有第一堵盖和第二堵盖,所述第一导流管的下部沿其轴向分别开有多个第一排气孔。本实用新型所提供的原子层薄膜沉积进气装置通过多个排气孔的设置,使得进气装置适用于多硅片批量处理,大幅增加了单位时间内的硅片产能,减弱了第一导流管和第二导流管的气场涡流,进一步的,卡套和第二接头通过...
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