技术编号:3331103
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型公开了一种晶圆双面研磨设备,包括研磨盘,研磨盘底部中心处设有驱动装置一,驱动装置一底部设有滑块,滑块安装于滑轨上,研磨盘上表面设有研磨布,研磨盘上方设有研磨头和研磨剂供给装置,研磨头上部中心处设有驱动装置二,研磨头底部通过伸缩支杆连接有衬垫,研磨头底部周圈设有限位环,限位环、衬垫以及研磨盘围成的封闭空间内设有工件,研磨头上方依次叠设有冷却液回收盘和冷却液供给盘,冷却液供给盘通过输出泵连接一输出管,输出管另一端连接设于限位环内的冷却通道,冷却通道上...
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