技术编号:33322905
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及为了在基板形成图案,吐出用于形成图案的原料并且照射激光进行沉积的沉积装置。更详细地,在基板形成用于各种电路配线的图案,但是,以往这些电路图案是在如化学气相沉积装置(chemical vapor deposition;cvd)的大规模设备中形成,但本发明涉及在普通的大气环境下,在基板形成微细的电路图案的沉积装置。背景技术.薄膜图案形成在用于驱动含有半导体晶片并包括lcd、oled的平板显示器的基板上,并且薄膜图案通常使用诸如cvd的大规模设备进行沉积。尤其,通常是通过利用掩膜的曝光...
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