技术编号:3338239
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型提供一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉,主体为腔体,还包括配气装置,腔体包括炉门、石英腔体和石英托架,炉门位于石英腔体上,石英托架与炉门相连,且石英托架位于石英腔体内,石英托架上还设有石英板匀流板,石英板匀流板上均布若干孔洞,配气装置包括进气气路、排气气路和尾气处理气路,进气气路包括氩气气路、氮气气路、氧气气路、氢气气路和氯化氢气路。一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉,石英匀流板装置,利用气体流动过程中的流量和气阻的分配关系使气氛在各处均匀分布;增加...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。