技术编号：3338546
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型公开了一种能够提高氮化硅膜均匀性且能够使真空沉积室内的温度保持在一个稳定的范围内的用于太阳能电池片的氮化硅膜制备装置。该装置包括设置有炉门的真空沉积室，真空沉积室内设有石墨舟，真空沉积室上设有进气口与排气口，所述进气口上连接有进气管，所述真空沉积室上设置有用于打开或关闭炉门的开关装置，所述进气管与进气口之间设置有气体混合装置，使得三种制程气体充分混合均匀后，再通入真空沉积室内进行反应，可以使真空沉积室内不同地方的硅片表面形成的氮化硅膜均匀性大大提...
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