技术编号:3340303
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种エ业化自动控制的等离子体源渗氮装置及其エ艺,属于材料表面工程领域。背景技术离子渗氮技术是利用气体辉光放电原理,将エ件置于阴极,炉壁为阳极,阴阳极之间加以数百伏直流/直流脉冲电压,真空室内放电导致低压氮氢气体电离,并在高压电场的作用下荷能轰击エ件表面,产生大量的热量加热エ件至渗氮温度,同时放电产生的活性氮在エ件表面发生吸附、化合、扩散等物理化学反应,获得一定深度的渗氮层。离子渗氮技术具有渗氮速度快、渗氮层组织易控制、脆性小、节能环保等优点,有效...
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