技术编号:3341826
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种以及所得到的溅射靶。靶材料的热膨胀系数与靶支撑件的热膨胀系数是相似的。背景技术溅射靶,比如陶瓷溅射靶在现有技术中是通常熟知的。它们包括结合到靶支撑件上的靶材料。一种制造平板陶瓷溅射靶的优选方法是热等静压制(HIP)。基本上,靶制造过程包括三个步骤a)将陶瓷粉体热等静压制(对于特殊的粉体,优选的是冷等静压制(CIP));b)将靶材料加工成可用于结合的形式;c)将靶材料结合到靶支撑件(垫板)上。为了对陶瓷粉体进行热等静压制,将陶瓷粉体装入罐中,对...
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